隨著現(xiàn)代化產(chǎn)品要求越來(lái)越精細(xì)，生產(chǎn)部件的水質(zhì)也很高，普通純凈水已經(jīng)不能滿足生產(chǎn)要求。接下來(lái)，常用的去離子水設(shè)備有哪些工藝流程？

    一、去離子水設(shè)備工藝。

    一種：預(yù)處理(即砂炭過(guò)濾器精密過(guò)濾器)反滲透混床工藝。這個(gè)方法是目前應(yīng)用廣泛的，因?yàn)榉礉B透的投資成本不高，可以去除水中90%的離子，然后通過(guò)混床交換去除剩余的離子，這樣出水電導(dǎo)率可以在0.06左右。這是目前流行的方法。

    二種：預(yù)處理與二種方法相同，只是后面用的混床換成EDI連續(xù)脫鹽膜塊，這樣就不用樹脂酸堿再生，而是用電再生。這使得整個(gè)過(guò)程完全無(wú)污染，處理后的水質(zhì)可達(dá)15M以上。但這個(gè)方法前期投入多，運(yùn)營(yíng)成本低。

    二.去離子水設(shè)備的工藝描述。

    1.反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備相結(jié)合，制備去離子水的基本工藝流程如下：

    原水多介質(zhì)過(guò)濾器活性炭過(guò)濾器，過(guò)濾器反滲透設(shè)備混床純水箱過(guò)濾器用水點(diǎn)(特點(diǎn)：污染少，自動(dòng)化程度高，初投資中等，適中價(jià)格)。

    2.反滲透設(shè)備和EDI設(shè)備配套制備去離子水。這是一種制備超純水的新工藝，也是一種環(huán)保、經(jīng)濟(jì)、極具發(fā)展?jié)摿Φ某兯苽涔に?。其基本工藝流程如下?/span>

    原水多介質(zhì)過(guò)濾器活性炭過(guò)濾器過(guò)濾器反滲透設(shè)備 EDI)純水箱過(guò)濾器水點(diǎn)(特點(diǎn)：環(huán)保、自動(dòng)化程度高、初投資大，價(jià)格比較貴)。

    三.去離子水設(shè)備的應(yīng)用范圍：

    1.電子材料加工、單晶硅半導(dǎo)體、半導(dǎo)體材料、液晶顯示器、計(jì)算機(jī)硬盤、印刷電路板、集成電路。

    2.醫(yī)藥化工行業(yè)、化工行業(yè)、食品工業(yè)行業(yè)用水。

    3.汽車家電等高科技表面電泳漆清洗用水產(chǎn)品。